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MicronX鍍層測厚儀鍍膜測厚儀材料分析儀

價(jià)  格:詢(xún)價(jià)

產(chǎn)  地:美國更新時(shí)間:2020-11-04 13:08

品  牌:賽默飛型  號:鍍層測厚儀

狀  態(tài):正常點(diǎn)擊量:1468

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上海非利加實(shí)業(yè)有限公司

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配送方式: 上海自提或三方快遞

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 美***賽默飛世爾ThermoFisher(熱電)公司MicronX 利用X-射線(xiàn)熒光的非接觸式的無(wú)損測試技術(shù)完美地用于微電子學(xué)、光通訊和數據貯存工業(yè)的金屬薄膜測量。 可以同時(shí)測量多至6層的金屬鍍層的厚度和成分,測量厚度可以從A(埃)至μ(微米),他也能測量多至 20個(gè)元素的塊狀合金成分。 其光束和探測器的巧妙結合加上高***的數字處理技術(shù)使得MicronX能***佳地解決你的應用。結果是ASIM(應用專(zhuān)用儀器測量)在準確度、精密度、和重現性上具有獨***無(wú)二的性能。

應 用: 集成電路制造、微電子器件、光/微波通信器件、磁記錄器件等. 

用于集成電路 凸點(diǎn)金屬化層(凸點(diǎn)下底部金屬化UBM技術(shù))、柔性PCB板、框架、晶圓、激光器、微波器件、薄膜磁頭等鍍膜(鍍層)疊層的測厚及材料分析

型 號:

VXR: 真空測量環(huán)境,增加靈敏度和測定范圍
GXR: 斑點(diǎn)小,樣品量大
MXR: 高性能,精密,分辨

ZXR/LXR:用于小樣品的經(jīng)濟型

【MicronX 主要規格】

* 光學(xué)準直

* 多種硅片定位選購件

* 精密樣品定位

* 5 ***光學(xué)變焦

* 激光自動(dòng)聚焦

* 圖案識別

* 多種探測器選擇 Si(Li), SDD, PIN, PC

* 能在非真空環(huán)境下分析至 1.5keV . 這是Thermo 獨***無(wú)二的!

 【光學(xué)聚焦元件的優(yōu)點(diǎn)】

* 小光束可測量小至 20 微米的面積

* 測量時(shí)間更短 (比同樣大小的機械準直快100 倍)

* 精密度比類(lèi)似大小的機械準直好10 倍

* 各種應用的精密度相同

* 減少校正曲線(xiàn)數量,將建立曲線(xiàn)和校正曲線(xiàn)維護減到***少

【應用舉例】

廣泛應用于集成電路 UBM凸點(diǎn) 框架 晶圓 激光器 微波器件 薄膜磁頭 柔性印刷電路板等多層鍍層厚度及材料分析
 


產(chǎn)品參數


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