SEMILAB-SE2000 全光譜橢偏測試平臺
價(jià) 格：詢(xún)價(jià)
產(chǎn) 地：更新時(shí)間：2021-01-18 16:44
品 牌：型 號：SEMILAB-SE2000 全光譜橢偏測試平臺
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SEMILAB-SE2000 全光譜橢偏測試平臺
(Spectroscopic Ellipsometer Metrology Station)
產(chǎn)品描述
| SE2000全光譜橢偏測試平臺基于橢圓偏振測試技術(shù)，采用的旋轉補償器，結合光纖專(zhuān)li技術(shù)將偏振光信號傳輸至分段光譜優(yōu)化的高分辨率單色儀或陣列式多通道攝譜儀，測得線(xiàn)偏振光經(jīng)過(guò)樣品反射后的偏振態(tài)變化情況，并通過(guò)樣品光學(xué)模型的建立，計算出單層或多層薄膜結構的厚度、折射率和消光系數，實(shí)現精確、快速、穩定的寬光譜橢偏測試。 |
| SE2000全光譜橢偏測試平臺是Semilab針對產(chǎn)線(xiàn)和實(shí)驗線(xiàn)推出的多功能高速測試平臺。模塊化的設計，可選配300mm樣品臺或350*450mm平板樣品臺，Robot上片系統，圖形識別系統和數據通信系統，實(shí)現高速在線(xiàn)監控。在測試功能方面，可自由組合多種從190nm深紫外光譜至2400nm近紅外光譜的探測器，并可拓展FTIR紅外光譜測試模組、渦電流法非接觸式或4PP接觸式方塊電阻測試模組、Mueller Matrix各項異性材料測試模組、Raman結晶率測試模組、電子遷移率表征模組、LBIC光誘導電流測試模組、反射干涉測試模組等多種功能，使SE2000成為光學(xué)和電學(xué)特性表征綜合測試系統。 |
產(chǎn)品特點(diǎn)
| 業(yè)界第yi***光譜型橢偏儀測試設備廠(chǎng)商 |
| 業(yè)界標準測試機構定標設備，參與發(fā)布中華人民共和***橢圓偏振測試技術(shù)標準 |
| 業(yè)界*寬測試光譜范圍，選配190nm-25um，并可自動(dòng)切換快速探測模式和高精度探測模式 |
| 配置實(shí)時(shí)對焦傳感器，實(shí)現高速測量 |
| 選配Robot上片系統，圖形識別系統和數據通信系統，實(shí)現在線(xiàn)監控 |
| 獨特的樣品臺結構設計，優(yōu)化固定大尺寸的柔性材料 |
| 模塊化設計，可綜合監控樣品光學(xué)和電學(xué)特性 |
| 定期免費升***SOPRA材料數據庫 |
| 開(kāi)放光學(xué)模型擬合分析過(guò)程，方便用戶(hù)優(yōu)化測試菜單 |
主要應用
| 光伏行業(yè)：薄膜電池透明導電膜、非晶硅微晶硅薄膜電池、CIGS薄膜電池、CdTe薄膜電池、有機電池、染劑敏感太陽(yáng)能電池 |
| 半導體行業(yè)：High-K、Low-K、金屬、光刻工藝、半導體鍍膜工藝、外延工藝 |
| 平板顯示行業(yè)：TFT、OLED、LTPS、IGZO、彩色濾光片 |
| 光電行業(yè)：光波導、減反膜、III-V族器件、MEMS、溶膠凝膠 |
主要技術(shù)指標
| 測試速度：＜1 sec （快速測試模式）
＜120 sec （高分辨率測試模式） |
| 測量光譜分辨率：＜0.5nm@633nm （高分辨率測試模式）
＜0.8nm@633nm （快速測試模式） |
| 樣品尺寸： 300mm |
| 厚度測量范圍：0.01nm-50um |
| 厚度測試精度：0.02nm @120nm SiO2 on Si |
| 折射率測試精度：0.002 @120nm SiO2 on Si |
滬公網(wǎng)安備31011502016460號
