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污染物對電子顯微鏡SEM/TEM和其它高真空系統產(chǎn)生的影響

潤滑劑、真空脂、泵油樣品中的高分子聚合物，或未經(jīng)處理的空氣都會(huì )把碳氫污染物引到真空系統中。低蒸汽壓下高分子重污染物會(huì )凝聚在樣品表面和腔室壁上，而使用普通氣體吹掃方法很難把碳氫污染物清除。

電子和高能光子(EUV, X-ray)能夠分解存在于真空系統中或樣品上的碳氫污染物。碳氫化合物的分解產(chǎn)物沉積在被觀(guān)測的樣品表面或電子光學(xué)部件上。這種碳氫污染沉積會(huì )降低EUV的鏡面反射率，降低SEM圖像對比度和分辨率，造成錯誤的表面分析結果，沉積在光闌或其它電子組件的不導電碳氫污染物甚至會(huì )造成電子束位置或聚焦緩慢漂移。在ALD系統中，樣品表面的碳氫污染物還會(huì )降低薄膜的界面匹配質(zhì)量。

遠程等離子清潔的原理

遠程等離子源需安裝在要被清潔的真空腔室上，控制器向遠程離子源提供射頻能量。射頻電磁場(chǎng)能激發(fā)等離子體，分解輸入氣體而產(chǎn)生氧或氫的活性基，活性基會(huì )擴散到下游的真空腔室，并與其中的污染物發(fā)生化學(xué)反應，反應產(chǎn)物能輕易地被抽走。遠程等離子清洗機可同時(shí)清潔真空系統和樣品。

技術(shù)特點(diǎn)：

• 快速清潔被污染的SEM樣品。2-60秒氫等離子體清潔ALD樣品。不需減速或關(guān)閉渦輪分子泵

• 低等離子偏壓設計減少離子濺射和顆粒生成。結合自有多***氣體過(guò)濾技術(shù)，SEMI-KLEEN能夠滿(mǎn)足用戶(hù)*苛刻的顆粒污染清除要求

• 可選藍寶石管腔體和耐腐蝕性氣體的流量控制器，以便支持CF4, NF3, NH3, HF, H2S等應用

• 特有的等離子強度傳感器可實(shí)時(shí)監測等離子狀態(tài)，用戶(hù)對等離子狀態(tài)***目了然

• 基于壓力傳感回饋控制的自動(dòng)電子流量控制器，無(wú)需手動(dòng)調節針閥

• 直觀(guān)的觸摸屏操作，可定義60條清洗程序方案

• 擁有智能安全操作模式和專(zhuān)***控制模式；SmartSchedule^TM定時(shí)裝置，通過(guò)檢測樣品裝載次數或時(shí)間間隔來(lái)定時(shí)清潔系統

• 低電磁干擾設計，安靜的待機模式

除了EM-KLEEN型遠程等離子清潔儀之外，另有SEMI-KLEEN quartz型和SEMI-KLEEN sapphire型遠程等離子清潔儀可供選購，三款主要應用范圍如下：

EM-KLEEN：SEM, FIB, TEM, XPS, SIMS, AES

SEMI-KLEEN quartz：SEM, FIB, TEM, CD-SEM, EBR, EBI, XPS, SIMS, AES

SEMI-KLEEN sapphire：ALD, EUVL, for NF3, CF4, NH3, H2, HF, H2S plasma

請根據您需要的應用選擇合適的型號和配置。