該產(chǎn)品是世界上di***款可以對有機材料、基板、多孔材料、塑料以及高聚物材料等有電荷積累的樣品和/或污染性樣品進(jìn)行超高分辨表征的低真空場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡（FEG-SEM）。作為FEI公司引領(lǐng)市場(chǎng)的眾多設備中zui新的***員，Nova NanoSEM為用戶(hù)在納米研究、開(kāi)發(fā)與生產(chǎn)的相關(guān)工作提供了更多的可能。
Nova NanoSEM的出現為那些非導電的以及有污染的納米材料研究和開(kāi)發(fā)者們帶來(lái)了新的表征手段。與NanoSEM同時(shí)發(fā)布的FEI Helix探測技術(shù)將浸入式透鏡和低真空掃描電鏡兩種技術(shù)成功地組合在***起，這在場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡的歷史上還是di***次。在給用戶(hù)帶來(lái)超高分辨率的同時(shí)，還能在低真空環(huán)境下有效地抑制非導電材料的電荷積累效應。Nova NanoSEM的這種新技術(shù)還可以有效地抑制由前道樣品處理過(guò)程所引起的電子束誘導污染。
除了低真空條件下二次電子和背散射電子成像以外，Nova NanoSEM還具有浸入式透鏡的技術(shù)和FEI所特有的使用電子束進(jìn)行納米結構沉積的氣體化學(xué)技術(shù)，所有的這些特點(diǎn)使之成為納米結構與納米材料研究領(lǐng)域中zui、zui理想的掃描電鏡
技術(shù)參數
1. 分辨率
高真空模式 1.0nm @ 15kV
1.8nm @ 1kV
0.8nm @ 30kV(STEM探測器)
低真空模式 1.5nm @ 10kV(Helix探測器)
1.8nm @ 3kV(Helix探測器)
2. 加速電壓 200V - 30kV,連續可調
3. 電子束流范圍 0.3pA - 100nA, 連續可調
4. 樣品臺移動(dòng)范圍
Nova NanoSEM 230: X=Y=50mm
Nova NanoSEM 430: X=Y=100mm
Nova NanoSEM 630: X=Y=150mm
主要特點(diǎn)
1. 超高分辨率Schottky場(chǎng)發(fā)射電子槍
2. 全球wei***的超高分辨率低真空場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡. 具有高真空和低真空(<200Pa)兩種真空模式.
3. 對容易污染、容易電荷積累的納米材料和納米器件進(jìn)行觀(guān)察和分析
4. 完全無(wú)油真空系統
5. 可選配電子束曝光、電子束誘導沉積等納米設計/加工功能
6. FEI公司基于Windows XP的-xT用戶(hù)界面
滬公網(wǎng)安備31011502016460號
