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英***Aquila公司是世界***的薄膜分析解決方案供應商。 
其N(xiāo)KD系列薄膜分析系統是世界上第***臺專(zhuān)為表征和分析薄膜涂層和基片而設計的光譜儀。適合測量多層薄膜的光學(xué)性能n（折射指數）和k（消光系數），以及d（厚度）。 
適合多種薄膜材料：介電、聚合物、半導體和金屬。 
主要應用在光學(xué)涂層, 半導體加工, 平板顯示器, 數據存儲產(chǎn)品, 建筑和高附加值玻璃, 包裝和裝飾材料, 光電器件等領(lǐng)域。 
選件豐富，包括軟件選擇入射偏振光及其角度，甚至直徑大到100mm的樣品的X-Y方向上的自動(dòng)掃描呈像。

技術(shù)參數：

1.波長(cháng)范圍：280nm-2300nm 
2.光譜分辨率：1或2nm (可選) 
3.層數：多層 
4.薄膜厚度范圍：5nm - 20μm 
5.基體：透明，半透明或半吸收

主要特點(diǎn)：

1.同時(shí)測量反射和透射光譜 
2.***體化的控制和分析軟件，計算基體中的多種反射 
3.數據分析可選用***系列散射模型 
4.內置涂層性能數據庫，可編輯，可擴展 
5.變角度測量，微光斑測量，樣品可控溫，樣品掃描測試

產(chǎn)品樣本：

NKD8000 中文樣本