Leica EM TIC 3X通過(guò)離子槍激發(fā)獲得的離子束，以垂直于樣品側面縱向轟擊樣品，可獲得高質(zhì)量無(wú)應力“切割”截面，便于SEM觀(guān)察。該處理方法適用于多層膜材料、軟硬復合材料等高難度制備樣品，并且操作簡(jiǎn)單，可有效避免涂抹效應，不需要大量摸索條件即可獲得理想的截面，使樣品暴露內部細微結構信息。
特點(diǎn)
? 可容納樣品尺寸50×50×10mm，可獲得有效切割截面面積＞4mm×1mm
? 三把離子槍?zhuān)x子束能量1keV-10keV，切割速率150μm/h (Si@10kV, 50μm切割高度)
? 離子束處理過(guò)程中樣品位置固定，無(wú)需偏轉運動(dòng)，無(wú)投影效應，熱傳導性好
? 可進(jìn)行離子束切割或刻蝕，可選擇任意離子槍
? 真空泵解耦合設計，無(wú)震動(dòng)傳導
? 觸摸屏操作面板，直觀(guān)、簡(jiǎn)易操作，可編程可軟件升***
? 可選配：液氮制冷冷臺-150°至30°，25L液氮罐及自動(dòng)泵，具有自動(dòng)快速制冷功能
? 可選配：三樣品臺，可***次連續處理三個(gè)樣品
? 可選配：旋轉樣品臺，用于對樣品進(jìn)行離子束拋光
Leica EM TIC 3X通過(guò)離子槍激發(fā)獲得的離子束，以垂直于樣品側面縱向轟擊樣品，可獲得高質(zhì)量無(wú)應力“切割”截面，便于SEM觀(guān)察。該處理方法適用于多層膜材料、軟硬復合材料等高難度制備樣品，并且操作簡(jiǎn)單，可有效避免涂抹效應，不需要大量摸索條件即可獲得理想的截面，使樣品暴露內部細微結構信息。
特點(diǎn)
? 可容納樣品尺寸50×50×10mm，可獲得有效切割截面面積＞4mm×1mm
? 三把離子槍?zhuān)x子束能量1keV-10keV，切割速率150μm/h (Si@10kV, 50μm切割高度)
? 離子束處理過(guò)程中樣品位置固定，無(wú)需偏轉運動(dòng)，無(wú)投影效應，熱傳導性好
? 可進(jìn)行離子束切割或刻蝕，可選擇任意離子槍
? 真空泵解耦合設計，無(wú)震動(dòng)傳導
? 觸摸屏操作面板，直觀(guān)、簡(jiǎn)易操作，可編程可軟件升***
? 可選配：液氮制冷冷臺-150°至30°，25L液氮罐及自動(dòng)泵，具有自動(dòng)快速制冷功能
? 可選配：三樣品臺，可***次連續處理三個(gè)樣品
? 可選配：旋轉樣品臺，用于對樣品進(jìn)行離子束拋光
滬公網(wǎng)安備31011502016460號
