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真空設備定制：

脈沖激光沉積系統定制、磁控濺射系統定制、二次電子發(fā)射系數測試系統……

其他：

真空設備維護、真空設備升***改造、樣品臺改造、機械加工……

脈沖激光沉積設備（PLD）定制

我們經(jīng)過(guò)多年的技術(shù)積累，充分研究了***內外PLD設備的優(yōu)缺點(diǎn)，開(kāi)發(fā)出了性能優(yōu)異的PLD系統。

我們可以提供單腔室簡(jiǎn)易PLD系統和雙腔室復雜PLD系統。

圖1.單腔室簡(jiǎn)易型脈沖激光沉積系統(PLD)

圖2. 雙腔室脈沖激光沉積系統(PLD)

設計特點(diǎn)如下：

• 設計靈活新穎，可根據用戶(hù)需求定制系統；

• 自主設計的激光加熱系統，加熱溫度1400°C；

• 靶臺具有擺動(dòng)功能，可增加靶材利用率；

• 可配備高壓RHEED，用于監測薄膜的生長(cháng)過(guò)程；

• 升***空間大，集成靈活度高，可加配離子源、濺射源等；

• 可與其他真空設備對接；

磁控濺射靶槍定制

1.規格參數

2.特點(diǎn)

• 可以集成到多種***產(chǎn)或進(jìn)口磁控濺射設備上，靶槍的真空內長(cháng)度可以定制；

• 安裝法蘭上帶有獨立的濺射氣體接口；

• 采用獨特的氣體導流罩將濺射氣體引入到靶面，可以在靶材附近實(shí)現更高的氣壓，同時(shí)也能降低腔室的氣壓；

3.用途

• 高?？蒲性核趴貫R射薄膜材料的研究與制備；

• 本科生或研究生的儀器教學(xué)；

二次電子發(fā)射系數測試系統定制

二次電子發(fā)射系數測試設備（SEY）用于金屬或介質(zhì)材料二次電子發(fā)射系數的測試。由于涉及到微弱電信號的探測和捕捉，該設備結構復雜，測試的靈敏度和重復性要求較高，目前***外只有少數幾***公司可以研制并生產(chǎn)。為打破壟斷，北京匯德信科技有限公司研制開(kāi)發(fā)了具有自主知識產(chǎn)權，專(zhuān)用于導體和介質(zhì)材料二次電子發(fā)射系數分析測試的整套解決方案。

LEO 二次電子發(fā)射系數測試系統(SEY)

設計特點(diǎn)如下：

• 柵網(wǎng)的透過(guò)率大于80%，收集效率高；

• 采用三層柵網(wǎng)及半球型收集器，可測試材料的二次電子發(fā)射系數及二次電子能譜；

• ***次電子槍的能量范圍從50 eV到5 KeV，并可擴展到更高能量；

• 具備脈沖信號測量功能，可測試介質(zhì)材料的二次電子系數；

• 樣品臺可傾斜，可測試不同入射角度下的二次電子系數；