美國Trion 高密度化學(xué)氣相沉積系統
價(jià) 格：詢(xún)價(jià)
產(chǎn) 地：更新時(shí)間：2021-01-19 15:36
品 牌：型 號：Orion HDCVD
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| 美***Trion Technology
反應式離子刻蝕(RIE/ICP)系統及沉積(PECVD)系統 | | Trion始于***九八九年的等離子刻蝕與沉積系統制造商，Trion為化合物半導體、MEMS(微機電系統)、光電器件以及其他半導體市場(chǎng)提供多種設備。我們的產(chǎn)品在業(yè)內以系統占地面積*小、成本低而著(zhù)稱(chēng)，且設備及工藝的可靠性和穩定性久經(jīng)考驗。從整套的批量生產(chǎn)用設備，到簡(jiǎn)單的實(shí)驗室研發(fā)用系統，盡在Trion。 Trion提供升***及回收方案給現有Matrix客戶(hù)。 |
美***Trion Orion HDCVD高密度化學(xué)氣相沉積系統
型號：Trion Orion HDCVD Orion HDCVD 高密度氣相化學(xué)沉積系統采用高密度的化學(xué)氣相沉積技術(shù)，在惰性氣體進(jìn)入口安裝感應線(xiàn)圈，周?chē)贾锰沾晒?。射頻創(chuàng )建等離子體,通過(guò)氣體環(huán)在襯底表面附近引入揮發(fā)性氣體。當惰性氣體與揮發(fā)性物質(zhì)結合時(shí)，會(huì )發(fā)生化學(xué)反應，然后在襯底表面沉積***層薄膜. 該技術(shù)不需要將襯底加熱到典型的PECVD溫度，并且該方法非常適合沉積在有機物、柔性襯底和其它具有溫度限制的表面上。 射頻可通過(guò)Chuck改變薄膜性能。 該系統可以升***傳送Loadlock，或添加到集群平臺Cluster。 Orion HDCVD 高密度氣相化學(xué)沉積系統采用高密度的化學(xué)氣相沉積技術(shù)，在惰性氣體進(jìn)入口安裝感應線(xiàn)圈，周?chē)贾锰沾晒?。射頻創(chuàng )建等離子體,通過(guò)氣體環(huán)在襯底表面附近引入揮發(fā)性氣體。當惰性氣體與揮發(fā)性物質(zhì)結合時(shí)，會(huì )發(fā)生化學(xué)反應，然后在襯底表面沉積***層薄膜.
該技術(shù)不需要將襯底加熱到典型的PECVD溫度，并且該方法非常適合沉積在有機物、柔性襯底和其它具有溫度限制的表面上。 射頻可通過(guò)Chuck改變薄膜性能。 該系統可以升***傳送Loadlock，或添加到集群平臺Cluster。 | | | | | |
滬公網(wǎng)安備31011502016460號
