德國 Raith 150 Two 高分辨電子束曝光系統
價(jià) 格：詢(xún)價(jià)
產(chǎn) 地：更新時(shí)間：2021-01-19 15:36
品 牌：型 號：
狀 態(tài)：正常點(diǎn)擊量：2568
400-006-7520
聯(lián)系我時(shí)，請說(shuō)明是在上海非利加實(shí)業(yè)有限公司上看到的，謝謝！
聯(lián) 系 人：
上海非利加實(shí)業(yè)有限公司
電 話(huà)：
400-006-7520
傳 真：
400-006-7520
配送方式：
上海自提或三方快遞
聯(lián)系我時(shí)請說(shuō)在上海非利加實(shí)業(yè)有限公司上看到的,謝謝！
| Raith 150 Two 高分辨電子束曝光系統
| | 詳細介紹 | | Raith 150 Two作為高分辨電子束曝光系統，自推出以來(lái)全球銷(xiāo)量不容忽視。該系統被廣泛地用于研發(fā)和納米技術(shù)中心，已證明了系統的24/7使用的穩定性。 Raith 150 Two可實(shí)現亞5nm的曝光結構，可處理8”晶元及以下樣片。 環(huán)境屏蔽罩保證了系統的熱穩定性，提高設備對實(shí)驗室環(huán)境的容忍度，即使在相對糟糕的實(shí)驗室環(huán)境下，也能保證系統的正常穩定運行。 超高分辨曝光及成像
00001. 小于8nm曝光 00002. 低電壓曝光及成像 00003. 系統自動(dòng)化程度高 00004. 可處理8"樣片 00005. 隔墻安裝 / 熱穩定性 研發(fā)及小批量生產(chǎn) 軟硬件的高自動(dòng)化程度保障了小批量生產(chǎn)中進(jìn)行簡(jiǎn)單且可重復性的曝光工作。 Raith 150 Two 高分辨的電子光學(xué)柱結合多種探測器可實(shí)現對準標記識別和過(guò)程控制中前所未有的靈活性。 Raith 150 Two 應用 ·  75nmT型柵高電子遷移率晶體管器件 ·  HSQ膠上制作亞4.5nm線(xiàn)條 ·  采用traxx長(cháng)線(xiàn)條無(wú)寫(xiě)場(chǎng)拼接曝光模式制作延遲波導結構 ·  5um厚膠上制作三維菲涅爾透鏡陣列結構 ·  PMMA膠上制作精細的11nm線(xiàn)條 ·  PMMA膠上制作60nm周期光柵結構 RAITH150 Two 產(chǎn)品詳情 | 主要應用: · 納米***光刻 · 高分辨成像 · 低電壓電子束光刻 樣品臺: · 完整的6“ 移動(dòng)范圍 · Z軸移動(dòng)范圍大 | | 電子槍技術(shù): · Gemini · 電子 · 30 kV · Inlense二次電子探測器 · 能量選擇背散射二次電子探測器（選配） 獨特直寫(xiě)模式: · traxx長(cháng)線(xiàn)條無(wú)寫(xiě)場(chǎng)拼接曝光模式 · periodixx周期結構無(wú)寫(xiě)場(chǎng)拼接曝光模式 | | | | | | | |
滬公網(wǎng)安備31011502016460號
