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美*** OAI 光刻機:
Model  2000 手動(dòng)曝光機,實(shí)驗室用 ,
Model 800MBA 雙面曝光機, 實(shí)驗室及小批量生產(chǎn),
Model  5000 全自動(dòng)曝光機,生產(chǎn)型
Model  2000 全自動(dòng)邊緣曝光系統,生產(chǎn)型

OAI 200型光刻機是***種具有成本效益的高性能掩模對準器，采用經(jīng)過(guò)行業(yè)驗證的組件，使OAI成為光刻設備行業(yè)的***。 200型是臺式面罩對準器，需要*小的潔凈室空間。它為研發(fā)，或有限規模，試點(diǎn)生產(chǎn)提供了經(jīng)濟的替代方案。利用創(chuàng )新的空氣軸承/真空吸盤(pán)調平系統，襯底快速平穩地平整，用于平行光掩模對準和在接觸曝光期間在晶片上的均勻接觸。該系統能夠實(shí)現***微米分辨率和對準精度。

對準模塊具有掩模插入件組和快速更換晶片卡盤(pán)，其便于使用各種襯底和掩模，而不需要用于重新配置的特殊工具。對準模塊包括X，Y和Z軸的微米。

200型掩模對準器具有可靠的OAI紫外光源，其在近紫外或深紫外中提供準直的紫外光，使用功率從200至2000瓦的燈。雙傳感器，光學(xué)反饋回路連接到恒定強度控制器，以提供在所需強度的±2％內的曝光強度的控制?？梢钥焖俸腿菀椎馗淖僓V波長(cháng)。該掩模Aligner是***種靈活，經(jīng)濟的解決方案，適用于任何入門(mén)***掩模對準和UV紫外光照射應用.

OAI在MEMS和微流體裝置方面的產(chǎn)品主要包括 : 

光刻機        

光源

以工作穩定，出光效率高，高均勻性和散射角小而著(zhù)稱(chēng)。且可提供 20” 以上的大面積光源。

光功率計及分析儀

OAI光功率計以其測量精度，重復性著(zhù)稱(chēng)。測量數據符合美***NIST標準。廣泛應用于半導體光刻能量測量及控制。