微分干涉金相顯微鏡(太陽(yáng)能顯微鏡）：
價(jià) 格：詢(xún)價(jià)
產(chǎn) 地：更新時(shí)間：2021-01-18 12:26
品 牌：型 號：DMM-1200C
狀 態(tài)：正常點(diǎn)擊量：2436
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| 金相顯微鏡 | 偏光顯微鏡 | 熒光顯微鏡 | 倒置顯微鏡 | 生物顯微鏡 | 體視顯微鏡 | 立體顯微鏡 | 讀數顯微鏡 | 測量顯微鏡 | | 金相設備 | 金相耗材 | 視頻顯微鏡 | 檢測顯微鏡 | 測量投影儀 | 影像測量?jì)x | 工具顯微鏡 | 硬度計 | 顯微鏡軟件 | | | 微分干涉金相顯微鏡（太陽(yáng)能顯微鏡）：DMM-1200C | ***、微分干涉金相顯微鏡儀器的主要用途和特點(diǎn)
DMM-1200微分干涉金相顯微鏡（DIC）采用優(yōu)質(zhì)的無(wú)限遠光學(xué)系統，微分干涉相襯顯微鏡適用于對多種物體的顯微觀(guān)察。配置落射DIC觀(guān)察系統與透射照明系統、無(wú)限遠長(cháng)距平場(chǎng)消色差物鏡、大視野目鏡和偏光觀(guān)察裝置，具有圖像立體感且清晰、造型美觀(guān)，操作方便等特點(diǎn)，是生物學(xué)、金屬學(xué)、礦物學(xué)、精密工程學(xué)、電子學(xué)等研究的理想儀器，可選用微分干涉（DIC）觀(guān)測、獲得高清晰的圖像，使圖像襯度更好,是針對半導體晶圓檢測、太陽(yáng)能硅片制造業(yè)、電子信息產(chǎn)業(yè)、治金工業(yè)開(kāi)發(fā)的，作為高***工業(yè)金相顯微鏡使用;可進(jìn)行明場(chǎng)觀(guān)察、落射偏光、DIC觀(guān)察，廣泛用于工廠(chǎng)、研究機構、高等院校對太陽(yáng)能電池硅片、半導體晶圓檢測、電路基板、FPD、精密模具的檢測分析。
DMM-1200C電腦型微分干涉金相顯微鏡是將精銳的光學(xué)顯微鏡技術(shù)、的光電轉換技術(shù)、尖端的計算機成像技術(shù)完美地結合在***起而開(kāi)發(fā)研制成功的***項高科技產(chǎn)品。既可人工觀(guān)察金相圖像,又可以在計算機上很方便地適時(shí)觀(guān)察金相圖像，并可隨時(shí)拍攝記錄金相圖片,從而對金相圖譜進(jìn)行分析,評***等,還可以保存或打印出高像素金相照片。
| | | | | | | | | | 二、大平臺微分干涉金相顯微鏡儀器的主要技術(shù)指標 | | 金相顯微鏡組件及規格 | | 光學(xué)系統 | 無(wú)窮遠光學(xué)系統 | | 主機 | DMM-1200倒置金相顯微鏡主機 | | 目鏡 | 大視野 | WF10X（Φ22mm） | | WF15X（Φ16mm） | | WF20X（Φ12mm） | | 平場(chǎng)分劃 | 10X/Φ20mm（0.10mm/格值） | | 物鏡 | 無(wú)限遠長(cháng)工作距離平場(chǎng)消色差
| 放大倍數/數值孔徑 | 有效工作距離 | | PL5X/0.12 | 26.1 | | PLL10X/0.25 | 20.2 | | PLL20X/0.4 | 8.8 | | PLL40X/0.6 | 3.98 | | 目鏡筒 | 三目鏡 | 鉸鏈式，傾斜30度，分光比：觀(guān)察80% 攝影20%；或觀(guān)察*** 攝影*** | | 濾片組 | 全系列濾色片 | | 物鏡轉換器 | 五孔物鏡轉換器 | | 調焦機構 | 同軸粗微動(dòng)調焦機構,帶鎖緊和限位裝置, 調焦范圍30mm 微動(dòng)格值0.8μm | | 載物臺 | 臺面尺寸：280mm*270mm; | | 移動(dòng)范圍：橫向（X）204mm，縱向（Y）204mm | | 照明系統 | 落射照明12V/50W，鹵素燈，中心、亮度連續可調 | | 微分干涉 | 可使用于5X、10X、20X | | | | | 三、大平臺微分干涉金相顯微鏡系統的組成 | 1、金相顯微鏡DMM-1200
2、CCD適配鏡
3、彩色數字攝像機（CCD）
4、計算機（選購） | | | | 四、大平臺微分干涉金相顯微鏡選購部分 | | 1.金相分析軟件 | | | | 五 、大平臺微分干涉金相顯微鏡同類(lèi)儀器的比較 | 1、DMM-1200C電腦微分干涉顯微鏡
2、DMM-1200D數碼微分干涉顯微鏡 | | | | 六、大平臺微分干涉金相顯微鏡相關(guān)設備 |
金相設備 金相拋光機 金相切割機 金相砂紙 金相切割片 金相鑲嵌機 金相預磨機 顯微硬度計 端淬試驗機 | | | | | | | | | | | |
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