德***Raith電子束光刻系統
1.掃描速度有：2.5MHz,4MHz，6MHz和10MHz多種選擇
2.工件臺移動(dòng)：45mmX45mm，150mmX150mm，200mmX200mm
3.激光工件臺的激光定位精度為2nm
主要特點(diǎn)1.可與多種SEM，FIB相結合形成電子束光刻系統
2.可提供三種型號的完整的電子束光刻系統 (Raith50, Raith150, e_LiNE)
3.價(jià)格合理，特別適用于學(xué)校和科研單位
4.可根據用戶(hù)不同需求訂制配置
儀器介紹Raith是***際***的開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)電子束光刻系統的專(zhuān)業(yè)公司。該公司以其優(yōu)越的性能和適
中的價(jià)格為納米及亞微米結構的科研和生產(chǎn)服務(wù)，贏(yíng)得了世界范圍內的包括IBM，AT&T
Stanford, Cambridge等300多***用戶(hù)。目前其主要產(chǎn)品和服務(wù)為：
1. 完整的電子束光刻系統Raith50， Raith150和e_LiNE：
1） e_LiNE可以用于加工六英寸的硅片，而Raith 150可以用于加工八英寸的硅片。
2） 使用壓電平衡和靜電吸盤(pán)保持硅片的聚焦平面。
3） 激光工件臺的激光定位精度為2nm。
4） 掃描速度為10MHz的高速圖形發(fā)生器。
5） 超長(cháng)穩定性和極高亮度的熱場(chǎng)致發(fā)射電子槍和高速靜電束閘。
其主要應用方面是：
1） 電子束直寫(xiě)應用。例如用于Si/GaAs 兼容工藝，研究用掩膜制造，納米光刻（例如
單電子器件、量子器件制作等）。
2） 高頻電子器件中的混合光刻（Mix & Match）。
3） 圖形線(xiàn)寬和圖形位移測量等
2．可根據用戶(hù)的應用情況和設備情況為用戶(hù)的微細結構研究和開(kāi)發(fā)提供經(jīng)濟實(shí)用、方便
快捷的電子束光刻技術(shù)方案?？筛鶕脩?hù)的要求將用戶(hù)已經(jīng)購買(mǎi)的各種不同型號的掃描
電子顯微鏡（JEOL，PHILIPS，AMRAY，HITACHI，CAMBRIDGE，ZEISS，等等），掃描
透射電子顯微鏡和聚焦離子束顯微鏡配備上圖形制作的功能，可以用它來(lái)制作微細圖形，
同時(shí)又不失去顯微鏡的功能。
3．電子束曝光中使用的鄰近效應校正軟件和層***結構的GDSⅡ編輯和瀏覽軟件。
4．大行程、高精度、激光干涉定位的超高真空工件臺。
5．半導體工業(yè)中造成失效的缺陷檢查和缺陷的CAD定位、集成電路解剖和圖象采集軟件
及工件臺。
6．各種特殊電子顯微鏡的配件的制作。如大行程、360度旋轉、大傾斜角度(傾斜時(shí)可
保持所選樣品點(diǎn)在中心位置不變)、高精度定位、拉伸、扭曲、加熱及冷卻或根據用
戶(hù)提出的特殊要求的樣品臺。
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