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  ◆電化學(xué)方法
線(xiàn)性?huà)呙璺卜?、線(xiàn)性?huà)呙枞艹龇卜?、線(xiàn)性?huà)呙柩h(huán)伏安法、階梯伏安法、階梯溶出伏安法、階梯循環(huán)伏安法、方波伏安法、方波溶出伏安法、方波循環(huán)伏安法、差示脈沖伏安法、差示脈沖溶出伏安法、常規脈沖伏安法、差示常規脈沖伏安法、單電位階躍計時(shí)電流法、單電位階躍計時(shí)電量法、多電位階躍計時(shí)電流法、多電位階躍計時(shí)電量法、恒電位電解I-t曲線(xiàn)、恒電位電解Q-t曲線(xiàn)、恒電位溶出I-t曲線(xiàn)、恒電位溶出Q-t曲線(xiàn)、開(kāi)路電勢E-t曲線(xiàn)、電位溶出E-t曲線(xiàn)、單電流階躍計時(shí)電位法、多電流階躍計時(shí)電位法、控制電流E-t曲線(xiàn)、塔菲爾圖TAFEL。

◆主要技術(shù)指標
電位掃描范圍 ±12.8V
電位分辯率 0.1mV
恒電流 ±250mA
溫度穩定性 <10uV/℃
輸入阻抗//電容 >1013Ω// <10pF
CV和LSV掃描速率 0.001～10000mV/s
D/A分辨率 16bit
A/D分辨率 24bit
電位激勵及測量精度 0.2%
電流激勵及測量精度 0.2%
電流測量量程 ±100nA～±250mA共14檔
儀器重量 <3kg
儀器尺寸 360×300×14（立方厘米）