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 微電極拋光（磨針）儀（Microelectrode Beveler）用于打磨拉制好的玻璃微電極尖端，主要是將尖端打磨成斜面，使電極更尖，同時(shí)使電極開(kāi)口變大，***方面在進(jìn)行細胞內記錄時(shí)有利于電極刺入細胞，***方面在進(jìn)行細胞內注射時(shí)有利于注射物質(zhì)進(jìn)入細胞。電阻測量?jì)x可以在打磨完成后對電極電阻進(jìn)行測量。

 用于細胞內記錄，打磨后可降低電極電阻，同時(shí)幫助電極刺入細胞（尤其是小細胞）。用于細胞內注射，減小對細胞的損傷，促進(jìn)注射物質(zhì)進(jìn)入細胞

技術(shù)參數

 根據選擇的打磨盤(pán)不同，可打磨口徑0.1-50μm的玻璃電極

 打磨盤(pán)無(wú)振動(dòng)，表面有磁力耦合。

 大磨盤(pán)表面為半波長(cháng)（250nm）光學(xué)平面。

 同步鐘電動(dòng)機確保穩定轉速。

 7磅重的底座增大了振動(dòng)阻尼。

 配有鹵素燈。

 配有微操縱器，控制打磨的精度與角度。

 打磨的差異：小于1.0μm

 打磨速度：60RPM

 打磨角度：5-90度可調

 微操：粗調1.9mm，微調0.01mm

 可選配體式顯微鏡（80x）和電極電阻測量?jì)x

 電極電阻測量?jì)x測量范圍：0-10，0-100，0-500Ω

 有多種型號選擇：BV-10-B（打磨儀），BV-10-C（打磨儀與電阻測量?jì)x），BV-10-D（配有顯微鏡的打磨儀），BV-10-E（配有顯微鏡的打磨儀與電阻測量?jì)x）。