半導體廠(chǎng)車(chē)間廢氣凈化吸收裝置
價(jià) 格：詢(xún)價(jià)
產(chǎn) 地：上海更新時(shí)間：2020-10-29 10:04
品 牌：標準集團型 號：廢氣凈化吸收裝置
狀 態(tài)：正常點(diǎn)擊量：1302
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污染原因
半導體廠(chǎng)車(chē)間廢氣凈化吸收裝置：對于半導體廠(chǎng)***而言，在去光阻工序中常會(huì )使用的去光阻液，雖絕有些工廠(chǎng)車(chē)間目前都已采用冷凝吸收器進(jìn)行去光阻工序排氣前的預處理凈化并回收，回收效率約在90%以上，但對于其所衍生的低濃度(<5ppm)有機惡臭污染物，礙于既有處理等***限制，無(wú)法將所有問(wèn)題***并解決，也長(cháng)期造成從業(yè)者許多困擾，這些含硫化合物氣體不但是造成高科技業(yè)或相關(guān)園區廢水廠(chǎng)空氣污染臭味投訴的主因，同時(shí)也是使被污染的空氣導引進(jìn)入如半導體晶圓制造廠(chǎng)及TFT-LCD。
產(chǎn)品參數
建議技術(shù)
本案建議采用uv光解除臭設備，其系利用高能高臭氧UV紫外線(xiàn)光束照射，裂解惡臭氣體，以去除及凈化臭味物質(zhì)。該設備購置運行成本低，適應性強，效率高，尤其適用于半導體廠(chǎng)、塑料廠(chǎng)、煉油廠(chǎng)、橡膠廠(chǎng)、化工廠(chǎng)、制藥廠(chǎng)、污水處理廠(chǎng)、垃圾轉運站等排放臭味氣體的處理，可以**解決吸附技術(shù)無(wú)法解決的臭味問(wèn)題。
產(chǎn)品介紹
現有問(wèn)題
因所處理的廢水含高科技業(yè)去光阻機臺的DMSO廢水，因此于廢水處理過(guò)程DMSO還原而產(chǎn)生DMS等還原性臭味，以DMS而言，其嗅覺(jué)閾值很低(<0.011-0.063ppmv)，大氣中只要含微量(低濃度)，就會(huì )產(chǎn)生明顯的惡臭氣味，若以現有冷凝吸收設備，無(wú)法**解決所衍生的臭味問(wèn)題，車(chē)間無(wú)法**解決廢水廠(chǎng)有機廢氣臭味的問(wèn)題。
滬公網(wǎng)安備31011502016460號
