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原子層沉積系統PICOSUN?- P系列

價(jià)  格:詢(xún)價(jià)

產(chǎn)  地:芬蘭更新時(shí)間:2020-09-23 13:49

品  牌:Picosun型  號:PICOSUN?- P系列

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原子層沉積系統PICOSUN?- P系列ALD技術(shù)可以覆蓋各種形狀、各種表面的樣品,可以覆蓋*** 細小的地方,***難到達的地方。具有高度的保形性、均***性及***無(wú)針孔。這使得ALD可以應用于各種行業(yè)里,實(shí)現各種表面的保護。ALD薄膜可以附著(zhù)在各種表面上,例如金屬,玻璃,塑料,乃至纖維及粉末。作為氣相、低溫的沉積技術(shù),ALD薄膜可以生長(cháng)在非常敏感的表面上,例如聚合物薄 膜。 ***,Picosun的ALD技術(shù)應用在鐘表部件、珠寶、硬幣上進(jìn)行 防著(zhù)色,防腐蝕的裝飾涂層。在生物植入醫療部件上的生物兼容、生物活性涂層。 致密、惰性、密封、彈性、透明的ALD薄膜技術(shù)挑戰傳統的膜 生長(cháng)方式。在PCB防腐蝕保護、防摩損等領(lǐng)域,ALD層大大提升了部件的質(zhì)量、可靠性及壽命。


產(chǎn)品參數

PICOSUN? ALD P-300 Pro技術(shù)參數(更多產(chǎn)品技術(shù)參數參考公司網(wǎng)站)
襯底尺寸和類(lèi)型最大300mm晶圓/單片
工藝溫度50 - 500 °C
基片傳送選件半自動(dòng)裝載,用單片Load lock與磁力操縱桿實(shí)現
25片晶圓盒對盒式全自動(dòng)裝載(cassette-to-cassette),用PICOPLATFORM? 300集群系統實(shí)現
標準SEMI S2認證
前驅體液態(tài),固態(tài),氣態(tài),臭氧源
等離子體(僅供200mm晶圓使用,最多4路氣體)
前驅源余量傳感器,并提供清洗和裝源服務(wù)
6條獨立源管線(xiàn),最多加載8個(gè)前驅體源(最多12個(gè)前驅體源,加上plasma管路共7根獨立源管線(xiàn))
重量820 kg
尺寸(W x H x D)
160 cm x 80 cm x 240 cm
選件集群工具,PICOFLOW?擴散增強,N2發(fā)生器,尾氣處理,定制設計,與工廠(chǎng)軟件連接服務(wù)。
驗收標準標準設備驗收標準為Al2O3工藝,
其他工藝可具體協(xié)商:其他工藝、應用具體驗收標準如:
--不均勻性
--顆粒物含量
--重金屬污染
--電學(xué)性能



產(chǎn)品介紹

原子層沉積系統PICOSUN?- P系列ALD技術(shù)可以覆蓋各種形狀、各種表面的樣品,可以覆蓋*** 細小的地方,***難到達的地方。具有高度的保形性、均***性及***無(wú)針孔。這使得ALD可以應用于各種行業(yè)里,實(shí)現各種表面的保護。ALD薄膜可以附著(zhù)在各種表面上,例如金屬,玻璃,塑料,乃至纖維及粉末。作為氣相、低溫的沉積技術(shù),ALD薄膜可以生長(cháng)在非常敏感的表面上,例如聚合物薄 膜。 ***,Picosun的ALD技術(shù)應用在鐘表部件、珠寶、硬幣上進(jìn)行 防著(zhù)色,防腐蝕的裝飾涂層。在生物植入醫療部件上的生物兼 容、生物活性涂層。 致密、惰性、密封、彈性、透明的ALD薄膜技術(shù)挑戰傳統的膜 生長(cháng)方式。在PCB防腐蝕保護、防摩損等領(lǐng)域,ALD層大大提 升了部件的質(zhì)量、可靠性及壽命。



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